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    2019-2020同步苏教化学必修一新突破课时分层作业:19 含硅矿物与信息材料 Word版含解析.doc

    • 资源ID:4887635       资源大小:120.50KB        全文页数:4页
    • 资源格式: DOC        下载积分:2
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    2019-2020同步苏教化学必修一新突破课时分层作业:19 含硅矿物与信息材料 Word版含解析.doc

    课时分层作业(十九)(建议用时:25分钟)合格基础练1下列叙述正确的是()ANa2SiO3是硅酸盐,但不能溶于水B电影银幕用水玻璃浸泡,主要是了为防腐C建筑工业常用水玻璃作黏合剂D用水玻璃浸泡铁道的木制枕木,主要是为了防火CNa2SiO3既是硅酸盐,又是钠盐,硅酸盐大多难溶于水,而钠盐均易溶于水;浸泡银幕主要是为了防火,而浸泡枕木主要是为了防腐;水玻璃有黏合作用,常作黏合剂。2下列关于水玻璃的性质和用途的叙述中不正确的是()A这是一种矿物胶,既不燃烧也不受腐蚀B在建筑工业上可以作黏合剂、耐酸水泥掺料C木材、织物浸过水玻璃后具有防腐性能且不易燃烧D水玻璃的试剂瓶可用磨口玻璃塞D水玻璃能够粘结玻璃,试剂瓶塞应用橡皮塞。3下列说法正确的是()A硅的化学性质不活泼,常温下不与任何物质起反应BSiO2是制造玻璃的主要原料之一,它在常温下不与NaOH溶液反应C电脑芯片的主要成分是SiO2DCO2通入水玻璃中可以得硅酸DA中硅常温下能与F2、HF反应;B中SiO2常温下可与NaOH溶液反应;C中电脑芯片的主要成分是Si;D中反应为Na2SiO3CO2H2O=H2SiO3Na2CO3。4昆仑玉的成分可简单看成是Ca2Mg5Si8O22(OH)2,则其用二氧化硅和金属氧化物的形式可表示为()ACaO·MgO·SiO2·H2OB2CaO·5MgO·8SiO2·H2OC2CaO·MgO·SiO2·2H2OD5CaO·2MgO·8SiO2·H2OB根据昆仑玉的化学式,将Ca、Mg、Si、H分别写成氧化物的形式,按较活泼金属氧化物较不活泼金属氧化物SiO2H2O的顺序排列,再调整各氧化物前的计量数并使其与昆仑玉化学式中一致,可得昆仑玉氧化物表示形式为2CaO·5MgO·8SiO2·H2O。5下列叙述正确的是()ACO2和SiO2都是酸性氧化物,所以两者物理性质相似B因为CaCO3SiO2CaSiO3CO2,所以硅酸的酸性比碳酸强CCO2和SiO2都能与碳反应,且都作氧化剂DSiO2既能和NaOH反应,又能和HF反应,所以二氧化硅属于两性氧化物CCO2和SiO2都是酸性氧化物,和其物理性质无因果关系,CO2熔、沸点低,硬度小,微溶于水,SiO2的熔、沸点高,硬度大,不溶于水。CO2和SiO2的物理性质相差较大,A项不正确;CaCO3SiO2CaSiO3CO2,反应进行的原因是因为SiO2沸点高,CO2沸点低,而“较强酸制较弱的酸”是溶液中复分解反应规律,B项不正确;CO2和SiO2都与碳反应,碳作还原剂,CO2和SiO2作氧化剂,C项正确;SiO2与HF反应是HF的特性,SiO2不与其他酸反应,故SiO2不属于两性氧化物,D项不正确。6为确认HCl、H2CO3、H2SiO3的酸性强弱,某学生设计了如下图所示的实验装置,一次实验即可达到目的(不必选其他酸性物质)。请据此回答: (1)锥形瓶中装某可溶性正盐溶液,分液漏斗所盛试剂应为_。(2)装置B所盛的试剂是_,其作用是_。(3)装置C所盛试剂是_,C中反应的离子方程式是_。(4)由此得到的结论是:酸性_>_>_。解析根据强酸弱酸盐弱酸强酸盐分析可知,分液漏斗中盛装盐酸,A中盛放Na2CO3,根据Na2CO32HCl=2NaClH2OCO2可以知道酸性HCl强于H2CO3,然后将生成的CO2通入Na2SiO3溶液中,反应为Na2SiO3CO2H2O=H2SiO3Na2CO3,由此判断酸性H2CO3>H2SiO3,但需注意的是A中反应会有HCl气体逸出,故通入Na2SiO3溶液前需将HCl吸收,但不能吸收CO2,故选用饱和NaHCO3溶液。答案(1)盐酸(2)饱和NaHCO3溶液吸收HCl气体(3)Na2SiO3溶液SiOCO2H2O=H2SiO3CO(或SiO2CO22H2O=2HCOH2SiO3)(4)HClH2CO3H2SiO3等级过关练7将过量的CO2分别通入:CaCl2溶液浓Na2SiO3溶液Ca(OH)2溶液饱和Na2CO3溶液。最终溶液中有白色沉淀析出的是()ABC DBCO2溶于水:CO2H2O=H2CO3,H2CO3的酸性比盐酸弱,而比硅酸强。根据酸与盐反应的规律,CO2通入CaCl2溶液无明显现象;过量的CO2通入浓Na2SiO3溶液中有白色沉淀H2SiO3生成;CO2通入Ca(OH)2溶液至过量,Ca(OH)2CO2=CaCO3H2O,CaCO3H2OCO2=Ca(HCO3)2,最终生成Ca(HCO3)2而无沉淀;过量CO2通入饱和Na2CO3溶液中:Na2CO3H2OCO2=2NaHCO3,生成的NaHCO3溶解度比Na2CO3溶解度小而结晶析出。8硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如图所示:(1)写出由纯SiHCl3制备高纯硅反应化学的方程式:_。(2)整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学方程式:_;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是_。解析(1)根据质量守恒定律可知,SiHCl3与H2在高温下反应,生成Si和HCl,反应的化学方程式为SiHCl3H2Si3HCl。(2)根据质量守恒定律,SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和H2,反应的化学方程式为SiHCl33H2O=H2SiO3H23HCl。H2还原SiHCl3过程中若混入O2,高温下,H2遇O2发生爆炸。答案(1)SiHCl3H2Si3HCl(2)SiHCl33H2O=H2SiO3H23HCl高温下,H2遇O2发生爆炸

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