UV-TiO2在印染废水处理中的应用与研究.docx
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1、UV-TiO2在印染废水处理中的应用与研究摘要:光催化氧化技术作为一种新型的氧化方法,在印染废水处理中已经发挥了一定的作用并有广阔的发展前景。本文介绍了印染废水的性质及成分以及UV-TiO2降解难降解有机废水的机理和主要影响因素。论文关键词:UV-TiO2,印染废水,光催化氧化,影响因素印染废水的成分与加工不同纤维所用染料助剂、机器设备及操作方法的不同,而有所差异。各类不同纤维(纤维素纤维、蛋白质纤维、合成纤维 )所用染料及助剂造成污染的成分如下:直接染料所用助剂为:Na2CO3、 NaCl、 Na2SO4、表面活性剂;活性染料所用助剂为NaOH、Na2CO3、Na2SO4、NaCl、表面活性
2、剂;还原染料所用助剂为:NaOH、 Na2SO4、 Na2Cr2O2、H2O2、NaBO3、CH3COOH、表面活性剂;硫化染料所用助剂为:Na2S、 Na2CO3、NaCl、H2O2,冰染料所用助剂为:NaOH、NaNO2、HC1、皂洗剂等表面活性剂;颜料所用助剂为:浆料、粘合剂、树脂等。酸性染料所用助剂为:CH3COOH、CH3COONa、Na2SO4、CH3COONH4、(NH4)3PO4、(NH4 )2SO4、表面活性剂;阳离子染料染腈纶所用助剂为:有机酸、表面活性剂。分散染料所用助剂为导染剂、CH3CH2OH、 CH3COONa、表面活性剂;酸性染料染尼龙所用助剂为:Na2SO4、有
3、机酸、单宁酸、酒石酸、表面活性剂;阳离子染料染腈纶所用助剂为:有机酸、表面活性剂。除此以外还包括印花上的大量废弃物。由此可见印染废水的成分的确是非常复杂且难以处理的1。2、光催化氧化原理2-4光化学氧化法是近多年来发展迅速的一种高级氧化技术,它的反应条件温和“氧化能力强”适用范围广,利用该法处理难降解毒性有机污染已成为国内外研究的热点。目前,人们已对半导体多相光催化进行了广泛的应用研究,包括高效催化剂的制备和新型反应装置的设计、光催化在环境保护、卫生保健、金属催化剂制备和贵金属回收、物质合成制备等几个主要方面的应用情况,并取得了丰硕成果。半导体多相光催化反应的基本原理是半导体粒子具有能带结构,
4、一般由填满电子的低能价带(valence band,VB)和空的高能导带(conduction band,CB)构成,价带与导带之间称为禁带。当用能量等于或大于禁带宽度(也称为带隙,Eg)的光照射半导体时,低能价带上的电子被激发跃迁至导带,在价带上产生相应的空穴(h+),它们在电场作用下分离。光生电子(e-)被迁移到粒子的表面,能还原半导体颗粒表面吸附的具有氧化性的金属离子,形成金属单质。光生空穴(h+)有很强的得电子能力,具有强氧化性,可以夺取半导体颗粒表面吸附的具有还原性的物质中的电子,使这些物质被氧化。通过这种作用,半导体本身因为得到电子而被还原,可以继续被光激发。从理论上讲,只要半导体
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- UV TiO2 印染 废水处理 中的 应用 研究
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